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超净高纯电子级氢氟酸

英文名：Ultra High Purity Hydrofluoric Acid

Electronic Information Materials

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产品详情

电子式：HF
CASNo：7664-39-3
用处：半导体、太阳能电池造作方面的硅晶片湿法蚀刻以及洗濯，液晶屏等fpd造作工序，水晶振荡器（石英振荡器）的造作工序。
注明：半导体、FPD造作流程越发要求精密化、高机能化，半导体硅电路板的洗濯在各类加工工序中变得极度沉要。氢氟酸拥有蚀刻、除去硅氧化膜的特质，因而在半导体硅电路板的洗濯流程中也是不成或缺的精密加工技术。由于此刻的多段洗濯工序中必要用到稀氢氟酸进行最终洗濯，半导体的湿蚀刻工序对氢氟酸也要求很高的干净度。洗濯对氢氟酸干净度要求极高的设备构件也必要用到超高纯度的氢氟酸。

另表，半导体、FPD造作工序，超高纯度药剂不仅能去除氧化膜，并且能在抑造粒子附着、晶片表表的粗糙度等，达到各类对洗濯性、职能性的要求。为此，我公司一向致力于对各类超高纯度电子化学品进行研发及销售。

包装：加仑瓶，20公斤、25公斤聚乙烯桶，200公斤压力容器，1000公斤IBC桶，20吨TANK罐。

联系人：朱义坤：130-6948-8833

薛栋：188-3907-6907

辛凯明：199-3918-1150

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氟资料

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电子级硝酸

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超净高纯电子级氢氟酸

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电子信息资料

产品描述

电子式：HF
CASNo：7664-39-3
用处：半导体、太阳能电池造作方面的硅晶片湿法蚀刻以及洗濯，液晶屏等fpd造作工序，水晶振荡器（石英振荡器）的造作工序。
注明：半导体、FPD造作流程越发要求精密化、高机能化，半导体硅电路板的洗濯在各类加工工序中变得极度沉要。氢氟酸拥有蚀刻、除去硅氧化膜的特质，因而在半导体硅电路板的洗濯流程中也是不成或缺的精密加工技术。由于此刻的多段洗濯工序中必要用到稀氢氟酸进行最终洗濯，半导体的湿蚀刻工序对氢氟酸也要求很高的干净度。洗濯对氢氟酸干净度要求极高的设备构件也必要用到超高纯度的氢氟酸。
另表，半导体、FPD造作工序，超高纯度药剂不仅能去除氧化膜，并且能在抑造粒子附着、晶片表表的粗糙度等，达到各类对洗濯性、职能性的要求。为此，我公司一向致力于对各类超高纯度电子化学品进行研发及销售。
包装：加仑瓶，20公斤、25公斤聚乙烯桶，200公斤压力容器，1000公斤IBC桶，20吨TANK罐。
联系人：朱义坤：130-6948-8833
薛栋：188-3907-6907
辛凯明：199-3918-1150